2020年11月6日，第四届国际先进光刻技术研讨会在成都胜利闭幕，IWAPS已连续举办三届，今年在成都举办第四届。会议由中国集成电路创新联盟和中国光学学会主办，中国科学院微电子研究所、中科芯未来微电子科技成都有限公司和中国科学院光电技术研究所承办，成都市双流区人民政府和南京诚芯集成电路技术研究院协办，IEEE电气和电子工程师协会提供技术支持。来自中国、美国、德国、日本、荷兰等世界各地众多名企、厂商、科研机构、高校的共500余名技术专家和学者参加了本届大会。

      近年来，中国集成电路蓬勃发展，基于这样的形式，国际先进光刻技术研讨会应运而生。IWAPS为来自国内外半导体工业界、学术界的资深技术专家和优秀研究人员等提供了一个技术交流平台，参会者可以就材料、设备、工艺、测量、计算光刻和设计优化等主题分享各自的研究成果，探讨图形化解决方案，研讨即将面临的技术挑战。作为国际高端光刻技术研讨会，其发言者均为特邀自光刻及其相关领域的国内外资深专家，代表了其所在领域的国际先进水平。报告内容涉及广泛，涵盖了当前的技术现状、未来的发展趋势以及面临的挑战等。该研讨会旨在为与会者提供一个深入讨论的互动平台，也为想要了解更多国内外半导体业界动态的研究者和工程师提供更多机会。

     同时由于疫情的原因，部分国外嘉宾无法现场参会，根据主办方需求开通了线上互动环节，通过线上会议来满足会议需求。除现场500余位参会者外，还有30余位国外演讲嘉宾和组委会成员线上参会，进行线上报告并与现场参会者进行互动。会后根据客户的反馈，因为本次线上直播这个功能，很多外籍专家得以继续以独特的形式参与到会议中，并没有因为疫情让本次会议的内容打折扣，大家都对这次会议的形式感到满意。

      汀兰长期服务与各类学术大会，与他们的长期合作中，不仅能感受到近年来我们国家日益强大的学术科研实力，更是被广大学子们的学习热情感染。当我走在本次大会的展板区，看着一家家科技企业和机构的成果，中国制造任重道远，在我们还未登顶的领域，有这么一群人依旧在默默努力！