第四届国际先进光刻技术研讨会

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案例介绍

Case details

第四届国际先进光刻技术研讨会

举办时间:2020年11月05日

参会人数:300人

举办地点:川投国际大酒店

服务项目:会议策划|会议接待|物料延展|会场搭建|摄影摄像|

      2020年11月5日,第四届国际先进光刻技术研讨会在成都双流区开幕。来自中国、美国、德国、日本等世界各地众多名企、厂商、科研机构、高校的共计500余名技术专家和学者参加了本届大会。

大会上,来自斯坦福大学、Mentor、ASML、ICRD、Nikon、Canon、微软等公司机构的特邀嘉宾分别就拟定的主题做告,深入分析了光刻领域先进节点最新的技术手段和解决方案,涵盖了当前的技术现状、未来的发展趋势以及面临的挑战等。

      据了解,IWAPS(国际先进光刻技术研讨会)为来自国内外半导体工业界、学术界的资深技术专家和优秀研究人员等提供了一个技术交流平台,旨在为与会者提供一个深入讨论的互动平台,也为想要了解更多国内外半导体业界动态的研究者和工程师提供更多机会。

      目前,成都已形成了从集成电路、新型显示、整机制造到软件服务的全产业链条,正聚焦“一芯、一屏”攻坚突破集群发展,积极创建“中国制造2025”国家级示范区。

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